韓國(guó)雙雄搶單ASML新型光刻機(jī)
近日,有消息稱,韓國(guó)半導(dǎo)體制造商三星和SK海力士正在準(zhǔn)備下單ASML的全新High-NA EUV光刻機(jī)。ASML表示,新的High-NA EUV光刻機(jī)將成為實(shí)現(xiàn)2納米制程工藝的關(guān)鍵設(shè)備。預(yù)示著2納米制程工藝的競(jìng)爭(zhēng)將更加激烈。 EUV光刻機(jī)是先進(jìn)制程得以延續(xù)的必備設(shè)備,ASML是全球第一大光刻機(jī)設(shè)備商,同時(shí)也是全球唯一可提供EUV光刻機(jī)的設(shè)備商,來(lái)自各大半導(dǎo)體廠商的訂單早已堆積成山。因此,去年AS
2022-10-25 09:54:16
來(lái)源:中國(guó)電子報(bào)、電子信息產(chǎn)業(yè)網(wǎng)??
作者:許子皓

近日,有消息稱,韓國(guó)半導(dǎo)體制造商三星和SK海力士正在準(zhǔn)備下單ASML的全新High-NA EUV光刻機(jī)。ASML表示,新的High-NA EUV光刻機(jī)將成為實(shí)現(xiàn)2納米制程工藝的關(guān)鍵設(shè)備。預(yù)示著2納米制程工藝的競(jìng)爭(zhēng)將更加激烈。

EUV光刻機(jī)是先進(jìn)制程得以延續(xù)的必備設(shè)備,ASML是全球第一大光刻機(jī)設(shè)備商,同時(shí)也是全球唯一可提供EUV光刻機(jī)的設(shè)備商,來(lái)自各大半導(dǎo)體廠商的訂單早已堆積成山。因此,去年ASML就已經(jīng)提高了兩次生產(chǎn)目標(biāo),希望到2025年,其年出貨量能達(dá)到約600臺(tái)DUV(深紫外光)光刻機(jī)以及90臺(tái)EUV(極紫外光)光刻機(jī)。

而此次升級(jí)后的High-NA EUV光刻系統(tǒng)將提供0.55數(shù)值孔徑,相較于配備了0.33數(shù)值孔徑透鏡的EUV系統(tǒng),精度將更高,可以實(shí)現(xiàn)更高分辨率的圖案化,以及更小的晶體管特征,成為實(shí)現(xiàn)2納米制程工藝的關(guān)鍵設(shè)備。

ASML預(yù)計(jì)明年將向客戶交付首臺(tái)High-NA EUV光刻機(jī),交付后,EUV光刻機(jī)將不再是最先進(jìn)的設(shè)備,理論上就能夠?qū)崿F(xiàn)自由出貨。

所有想要競(jìng)爭(zhēng)2納米市場(chǎng)的玩家都對(duì)這臺(tái)全新的光刻機(jī)勢(shì)在必得。英特爾率先宣布訂購(gòu)High-NA EUV光刻機(jī),還宣布了一個(gè)集成半導(dǎo)體公司(IDM 2.0)的戰(zhàn)略,目標(biāo)是重回晶圓代工市場(chǎng)。

臺(tái)積電也表示將在2024年購(gòu)買ASML的High-NA EUV光刻機(jī),目標(biāo)是在2025年量產(chǎn)2納米制程工藝。

而韓國(guó)雙雄三星和SK海力士也表示將加入訂單大戰(zhàn)。以三星電子為例,其現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)估計(jì)花費(fèi)了10億到15億元人民幣,而High-NA EUV光刻機(jī)則估計(jì)將達(dá)到25億元人民幣,以爭(zhēng)取在2025年的2納米之戰(zhàn)中取得先機(jī)。

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